| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 봄 (04/26 ~ 04/27, 강원대학교) |
| 권호 | 8권 1호, p.2273 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 원자층 증착 공정에 관련한 Si(100)위에서 알코올의 표면화학연구 |
| 초록 | 차세대 기능소자 개발을 위하여 나노 구조 박막의 성장을 위한 공정의 연구가 진행되 고 있으며, 현재 가장 적합한 증착 방법으로 원자층 화학증착(ALCVD : atomic layer chemical vapor deposition)에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 원자층 증착은 나노 스케 일의 박막 두께 조절이 용이하고 조성 조절이 쉬우며 대면적의 균일한 박막성장이 가능하여 차세대 반도체 소자 및 디스플레이 소자, 촉매, 나노코팅 분야 등에서 많은 관심을 받고 있 는 증착 기술이다. 양질의 박막을 얻기 위해서 그 증착 메커니즘을 이해하고 공정의 최적화 를 위해서는 화학전구체의 표면반응 이해가 필수적이다. 초고집적회로에서 알코올은 극 초 박막 증착에 있어서 기판의 표면처리나 유전체 혹은 electroluminescent(EL) panels의 이온 방지 막으로 쓰이는 알루미나(Al2O3) 증착에 있어서 산소 공급원으로 사용된다. 또한 촉매 공정에서 알코올의 금속 표면 위에서 흡착 과 반응은 매우 중요하다. 알코올 처리된 표면상 태와 화학증착을 사용한 박막의 속도론과 성장 메커니즘을 이해하기 위해서 알코올의 표면 화학연구가 중요하다.....(생략) |
| 저자 | 김재현, 김관수, 용기중 |
| 소속 | 포항공과대 |
| 키워드 | surface chemistry; alcohols; TPD; decomposition |
| , | |
| 원문파일 | 초록 보기 |
