| 초록 |
유전체의 3차원상의 규칙적인 배열인 Photonic Crystal은 전파기파의 밴드갭 형성 및 광학 물성의 변화를 유발한다. 저유전율의 단분산의 SiO2의 포토닉 결정에 대한 많은 보고가 있었으나, 유전율이 높은 TiO2에 대한 제조 및 포토닉 결정에 대한 응용 연구는 극히 미미한 상황이다. 따라서 본 연구에서는 고유전율 포토닉 결정을 구성하는 TiO2구 제조와 3차원적인 포토닉 결정 형성 방법에 대한 연구를 보고하고자 한다. 균일한 TiO2 입자를 얻기 위해 Silica의 함유량, TEOT의 함유량, 물의 함유량, HPC의 함유량을 변수로 실험계획법을 이용하여 TiO2의 코팅 특성을 평가하였다. 특히 제조된 분말 특성은 제타 포텐셜 측정, 전자현미경을 이용한 미세구조 분석, X선회절을 통해 분석하였다. 최적화된 TiO2구를 Dip Coating법으로 3차원적으로 규칙적으로 배열하고자 하였다. 최적화된 TiO2구 분말 제조 및 고유전율 포토닉 결정 제조기술의 응용 방향도 함께 논의될 것이다. |
