| 초록 |
다층 구조 박막의 투명전극에서 표면 플라즈몬 공명 현상이 나타날 수 있는 삽입층으로 사용되는 금속은 Ag, Al, Au, Cu 등이 보고 된바 있다. 본 실험에서는 Cu를 다층박막의 삽입층으로 증착한 ITO/Cu/ITO (ICI) 다층박막을 제작하여 전기적, 광학적, 구조적 특성을 분석하였다. Dual target DC sputtering system을 이용하여 ITO, Cu target을 양쪽 gun에 장착하여 순차적으로 ITO, Cu, ITO를 성막 함으로써 한 번의 pumping을 통해 in-situ 공정으로 제작하였다. 성막된 ICI박막의 전기적, 광학적, 구조적 특성을 분석하기 위하여 hall effect measurement 와 UV/Vis spectrometer, XRD(X-ray diffraction) 분석을 각각 진행하였으며, 또한 표면 분석을 위해 SEM(scanning electron microscopy) 분석을 진행하였다. 본 연구를 통해 최적화 된 ICI 다층박막 박막은 상온에서 반응 가스 없이 성막하였고 ICI 다층박막의 두께가 90 nm임에도 불구하고 5.5Ⅹ10-5 ohm-cm, 6.1 ohm/sq의 매우 낮은 비 저항과 면 저항, 가시광선 영역에서 70 % 이상의 광 투과도를 보이는 것으로 나타났으며 비정질의 구조를 보였다. 본 연구 결과 Dual target sputter을 이용하여 In-situ 공정으로 성막한 ICI 다층박막은 낮은 면 저항과 높은 광 투과도를 보임으로써 저가의 고품위 투명전극으로서의 가능성을 제시하였다. |
