| 초록 |
현재 널리 연구 되고 있는 TCO/Metal/TCO multilayer 박막은 낮은 면 저항과 높은 광 투과도를 보이며 기존의 ITO 박막을 대체 할 수 있는 TCO로 각광 받고 있다. 이에 본 연구에서는 Dual target DC sputtering system을 이용하여 ITO, Ag target을 양쪽 gun에 장착하여 순차적으로 ITO, Ag, ITO를 성막 함으로써 한 번의 pumping 만으로 3층의 ITO / Ag / ITO multi layer 박막을 Ag 두께를 변수로 제작하였다. 유리기판 위에 성막된 IAI박막의 전기적, 광학적, 구조적 특성을 분석하기 위하여 hall effect measurement 와 UV/Vis spectrometer, XRD(X-ray diffraction) 분석을 각각 진행 하였으며, 또한 표면 분석을 위해 SEM(scanning electron microscopy) 분석을 진행하였다. 본 연구를 통해 최적화 된 IAI multi layer 박막은 상온에서 반응 가스 없이 성막한 90 nm의 박막임에도 불구하고 3.6Ⅹ10-5 ohm-cm, 3.8 ohm/sq의 낮은 비 저항, 면 저항과 가시광선 영역에서 87 % 이상의 높은 광 투과도를 보이는 것으로 나타났으며 비정질의 구조를 보였다. 본 연구 결과 Dual target sputter을 이용하여 In-situ 공정으로 성막한 IAI multilayer TCO의 경우 기존의 Sputter, evaporator 를 이용하여 성막한 IAI multilayer TCO 보다 뛰어난 광 투과도를 나타내었으며 이에 본 연구를 통해 최적화된 IAI 박막은 투명 전극으로서의 이용 가능성이 높게 평가된다. |
