| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2018년 봄 (05/02 ~ 05/04, 대구 엑스코(EXCO)) |
| 권호 |
22권 1호 |
| 발표분야 |
환경에너지_포스터 |
| 제목 |
반도체/디스플레이 공정 챔버 세정가스 대체용 F3NO 가스 개발 |
| 초록 |
정부는 국가 온실가스 배출량을 2030년까지 BAU 대비 37% 감축할 계획을 수립하고 목표 달성을 위해 온실가스 배출권 거래제와 목표관리제가 시행되었다. 반도체 산업은 최고효율 감축기술(분해설비)이 기 적용되어 감축 한계에 봉착하였고, 교토 의정서에서 지정된 온실가스 외 NF3가 신규 온실가스로 선정 될 가능성이 매우 높다. NF3는 반도체, LCD 및 태양전지 제조공정 중 하나인 CVD(Chemical Vapor Deposition) 공정에서 Chamber 내부 벽의 잔류물을 제거하기 위한 용도로 사용하는 가스이다. 세계반도체 및 디스플레이 협회에서는 녹색지수관리를 통해 규제관리를 시작하였으며, 규제내용도 점점 강화되고 있는 추세이다. 그리고 국내업체가 NF3 세계생산량 50% 이상을 점유하고 있는 만큼, 국내에서는 NF3에 대한 규제 대응기술이 절실히 필요하다. 본 연구에서는 NF3의 대체가스로 매우 유력한 F3NO 제조기술 중 가장 유력한 SbF5/NF3/N2O 시스템을 이용한 F3NO 합성 방법, 중간체 분석 방법 등에 대해 소개하고자 한다. |
| 저자 |
강홍석1, 손은호1, 하종욱1, 소원욱1, 박인준1, 육신홍1, 이수복1, 곽정훈2, 전병호2, 박기선2, 권병향2
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| 소속 |
1한국화학(연), 2SK Materials |
| 키워드 |
F3NO; 챔버세정가스
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