| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2018년 봄 (04/25 ~ 04/27, 창원컨벤션센터) |
| 권호 | 24권 1호, p.897 |
| 발표분야 | 촉매 및 반응공학 |
| 제목 | 전자산업공정에서 배출되는 N2O의 촉매 분해 및 NF3의 영향 |
| 초록 | 아산화질소(N2O)는 반도체 및 디스플레이 제조공정에서 SiH4와 반응하여 SiO2 박막을 증착시키는데 필요한 원료물질로 사용된다. 최근 반도체와 디스플레이의 수요가 급증하면서 그에 따른 N2O의 배출량이 증가되고 있으며, 이를 처리하기 위한 기술개발이 요구되고 있다. 그러나 전자산업공정의 폐가스에는 불소화합물이나 SiO2 입자 등이 N2O와 함께 포함되어 있어 촉매를 적용할 경우 부식이나 입자에 대한 비활성, 전처리 및 후처리 공정 등의 다각적 단위 공정의 설계가 필요하다. 본 연구에서는 700 ℃, 5,000/h에서 N2O 분해촉매의 성능평가를 수행하였으며, 농도별 NF3 가스 존재에 따른 촉매의 영향을 평가하였다. 또한 촉매 반응 전, 후의 조성 및 표면 분석을 통해 촉매의 내구성 증진을 위한 방안을 검토하고자 하였다. |
| 저자 | 서민혜1, 이수영1, 조성수1, 송형운1, 김현경2 |
| 소속 | 1고등기술(연), 2엠에이티플러스(주) |
| 키워드 | 촉매 및 반응공학 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
