| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2013년 봄 (05/01 ~ 05/03, ICC JEJU) |
| 권호 | 17권 1호 |
| 발표분야 | 포스터-화학공정 |
| 제목 | HF수용액과 정제 NH3가스를 이용한 NH4F 합성연구 |
| 초록 | 웨이퍼 위에 증착된 박막의 일부를 선택적으로 제거함으로써 원하는 형태의 미세한 구조물을 형성하고 이를 반복함으로써 복잡한 구조의 소자를 제조하는 에칭 기술은 크게 에칭용액을 이용하는 습식 에칭과 기체상태의 에칭물질을 이용하는 건식 에칭으로 분류가 된다. 이중 SiO2 박막에 대한 에칭은 습칙에칭이 쓰이며, HF와 NH4F로 만든 BOE를 에칭제로 많이 사용하고 있다. 본 연구에서는 HF수용액과 정제 NH3가스를 이용한 NH4F 합성하는 공정에 있어서, 반응에 적합한 반응기의 재질, 불순물을 포함한 암모니아가스의 불순물제거에 대하여 고찰 하였고, HF수용액과 정제 암모니아가스의 반응조건에 따른 NH4F의 수율에 대하여 살펴보았다. |
| 저자 | 김영덕, 이철우 |
| 소속 | 한밭대 |
| 키워드 | 에칭; BOE; NH4F |
