| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/22 ~ 05/23, 상록리조트) |
| 권호 | 14권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | Imprinting을 이용한 DNA array chip용 Nano well 형성방법 |
| 초록 | 최근 게놈 프로젝트로 대표되는 유전자 염기서열 해석의 급속한 증가로 생체 내 많은 유전자의 역할을 효율적으로 해석하기 위한 새로운 실험기법이 필요하게 되었다. DNA Chip은 Slide glass상에 수백에서 수십만 개의 DNA 유전자를 정렬·고정화한 것으로, 해석하고자 하는 세포에서 추출한 RNA로 조제한 형광 표식 cDNA를 hybridization하여 각 유전자의 발현 변화를 측정하는 방법이다. 한번의 실험으로 매우 많은 유전자의 발현 정보를 얻을 수 있으며, 유전자 구조정보를 바탕으로 체계적인 발현 해석을 위한 강력한 screening 방법으로 이용되고 있으나, DNA chip의 well size가 micro scale일 때는 DNA가 aggregation되는 문제점이 발생한다. Chip의 well size를 nano scale로 줄이면 DNA가 aggregation되는 문제점을 해결할 수 있고, 시료를 절약할 수 있으며, 형광 intensity 분석 시 data를 정량화 할 수 있다는 장점이 있다. Nano scale의 DNA Chip 제작을 위해서는 LIGA, FIB(Focused Ion Beam), EBL(Electron Beam Lithography)과 같은 고가의 공정이 필요한 단점이 있으며, 이로 인한 생산성 저하로 DNA Chip 양산의 저해요소가 되고 있다. 본 연구에서는 이를 개선하고자 저렴한 Stamp 제작 기술을 개발하여 Imprinting 기술에 적용하였고, 그 결과 저비용 대량생산에 적합한 DNA Chip을 제작하였다. Si nano stamp의 제작을 위하여 고가의 공정이 아닌 Conventional Photo-lithography방식과 ICP(Inductively coupled plasma) Etcher를 사용 하였으며, 이를 이용하여 PMMA(Polymethly Methacrylate) Resin에 Thermal Imprint 방식으로 nano well pattern을 형성 하였다. Residual PMMA를 제거하기 위하여 O2 Plasma를 이용 하였으며, Nano well array의 특성을 AFM(Atomic Force Microscope)및 FE-SEM(Field Emission Scanning Electron Microscopy)을 이용하여 평가하였다. |
| 저자 | 이정환, 조시형, 김동진, 임현우, 박진구 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | Nanoimprint lithography (NIL); Imprinting; Nano well; Array chip; DNA Chip |
