| 초록 |
ZnO는 3.3eV의 직접천이형 반도체로 우수한 전기적/광학적 특성으로 투명박막의 소재로 활발히 연구되어 왔다. 또한 소량의 Al첨가를 통해 전기전도도를 크게 향상 시킬 수 있는 것으로 알려져 있다. ZnO 투명 박막은 RF magnetron sputtering, pulsed laser ablation, chemical vapor doposition 등의 다양한 방법을 통해 우수한 투명 박막을 제조하는 연구결과가 발표되었다. 하지만 이는 대부분 진공 증착법으로 공정 비용이 비교적 비싸다. 반면 Chemical Bath Deposition(CBD) 방법은 상대적으로 장비 및 공정 비용이 저렴하고 대면적화로 산업적인 적용이 가능하여 진공 증착법의 대체 방법으로 연구되고 있다. 본 연구에서 Chemical bath deposition(CBD)법을 통해 ZnO 박막을 유리 기판위에 증착되었다. ZnO 반응 용액은 DI water와 암모니아수를 혼합한 용매에 ZnO Powder를 용해시켜 제조되었다. 또한 ZnO 반응 용액에 Al소스를 첨가하여 ZnO:Al(AZO)를 증착하였다. XRD분석을 통해 ZnO와 AZO는 동일한 wurtzite격자구조를 이루고 있는 것을 확인하였다.또한 Al 혹은 Al을 포함한 이차상이 발견되지 않았다. 따라서 첨가한 Al이 ZnO 격자구조 안에 도핑되는 것으로 판단된다. Al 첨가에 의하여 박막의 전기 전도도는 향상되었지만, 박막 증착 속도는 감소하였다. |
