| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 봄 (04/23 ~ 04/24, 성균관대학교) |
| 권호 | 5권 1호, p.1821 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 사진공정을 이용한 RTD(Resistance Temperature Detector) 센서의 제조 |
| 초록 | 최근 전자 기기나 자동차 또는 산업용 대형 system에 사용되는 센서는 모든 부품의 소형화에 따라 종래의 bulk형 센서에서 기능이 다양하고, 복합적이며 소형화 반도체식 박막형 센서로 변화되고 있는 추세에 있다. 여러 가지 온도 센서중 RTD 온도센서는 소자의 온도변화에 따른 저항값의 변화를 이용한 센서로서, 실용화되어 있는 온도센서 중에서 가장안정도가 높으며(특히 상온부근), 감도가 좋아 고정밀 온도계측이 가능하고, 비교적 간단한외부 회로로 직선출력을 얻을 수 있다. 본 연구에서는 고순도 백금을 사용하여 소형화가 가능한 박막형 RTD를 제조하였다. 현재 생산·판매되고 있는 박막형 RTD는 주로 레이저 식각법을 이용한 제품들로서 고가이며 고온에서 사용할 때에는 자체 저항에 변화를 줄 수 있는 단점을 가지고 있다. 이를 해결하기 위해 박막증착용 알루미나(Al2O3) 기판 위에 고진공에서 sputtering법으로 Pt 박막을 형성하고, 화학식각공정을 이용하여 패턴을 형성하고 이를다시 열처리하여 RTD를 제조하였다. 제조공정중의 sputtering time과 thickness, softbaketime과 developing time, thickness와 etching time과의 관계, 그리고 제조한 RTD의 온도-저항 특성, 그리고 etching time등의 관계를 연구 고찰하였다. |
| 저자 | 김지광, 김종성, 신영화 |
| 소속 | 경원대 |
| 키워드 | RTD; Photolithography |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
