| 학회 |
한국화학공학회 |
| 학술대회 |
2014년 가을 (10/22 ~ 10/24, 대전 DCC) |
| 권호 |
20권 2호, p.2421 |
| 발표분야 |
Polymer and nanotechnology symposium(고분자부문위원회) |
| 제목 |
Reverse offset printing and its applications |
| 초록 |
리버스 오프셋 인쇄(reverse offset printing) 기술은 polydimethylsiloxane (PDMS) 재질의 블랭킷 상에 잉크를 코팅한 후, 음각 패턴 형태의 클리쉐(cliché; 인쇄판)와 접촉하여 잉크를 떼어내어 “off”한 후, 필름 또는 하드 기재 상에 잉크를 전사하여 “set”하는 과정으로 이루어지는 인쇄 기술이다. 리버스 오프셋 인쇄 기술은 복잡한 미세 패턴을 넓은 면적의 필름 및 하드 기재 상에 걸쳐 형성할 수 있어 대량 생산에 적합한 차세대 정밀 인쇄 기술이다. 이 기술에 있어 중요한 세 가지 핵심 소재는 잉크와 블랭킷, 그리고 클리쉐이다. 이 세 가지가 균형을 이루어야 원하는 패턴을 갖는 제품을 높은 수율로 대량 생산할 수 있다. 본 발표에서는 리버스 오프셋 인쇄 기술 및 응용 분야에 대하여 전반적으로 소개하고, 이 중 PDMS 재질의 블랭킷의 특성이 인쇄에 미치는 영향에 대하여 논의한다. |
| 저자 |
성지현 |
| 소속 |
LG화학 기술(연) |
| 키워드 |
reverse offset printing; 리버스 오프셋 인쇄; 블랭킷; polydimethylsiloxane; 클리쉐; cliché; 잉크
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| 원문파일 |
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