| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2009년 가을 (10/15 ~ 10/16, 서울산업대학교 내 서울테크노파크) |
| 권호 |
13권 2호 |
| 발표분야 |
나노(포스터) |
| 제목 |
초임계 이산화 탄소를 이용한 Pattern화된 p-SiOCH film의 복원 |
| 초록 |
최근 transistor의 size와 동반하여 미세전자소자의 pattern간격이 점차 줄어들게 되었다. 하지만 이러한 직접화로 인하여 기존에서 보이지 않았던 단점들이 생겨나고 있다. 그 중 대표적인 문제점은 BEOL(Back End of the Line)으로 불리는 interconnect공정에서의 신호지연현상을 꼽을 수 있다. 이를 해결하기 위하여 낮은 유전상수 물질인 다공성 low k 물질이 도입되었으나, 이역시도 플라즈마에 대한 내성이 미약하여 유전율이 상승하는 단점을 가지게 된다. 따라서 본 연구에서는 이러한 플라즈마 손상된 low k 박막의 pattern화 수행 및 patterning과정에서 손상된 박막의 유전율을 복원하는 연구를 진행하였다. |
| 저자 |
정재목, 배진한, 임권택
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| 소속 |
부경대 |
| 키워드 |
Low-k; scCO2; patterning; p-SiOCH
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| E-Mail |
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