| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2022년 봄 (05/11 ~ 05/13, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 | 26권 1호 |
| 발표분야 | 포스터-환경·에너지 |
| 제목 | 고순도 공업용수 polishing stage의 UV-TOC 성능평가에 관한 연구 |
| 초록 | 반도체 생산은 초미세 공정으로 미세한 불순물에도 민감하게 반응하여 불량을 하고 수율을 저하시킨다. 특히 공정의 말단에 있는 장비들의 경우 해당 공정을 지나면 바로 반도체 공정에 사용되기 때문에 더욱 엄격한 성능평가 조건이 요구된다. UV-TOC 공정은 고순도 공업용수 공정에서 TOC를 제거하는 공정이다. 185nm UV를 이용하여 수중에서 OH라디칼을 생산하여 유기물을 산화하여 제거한다. 그러나 이 과정에서 부산물로 과산화수소가 생성될 수 있으며 이는 반도체 공정의 불량을 야기한다. 이에 따라 본 연구에서는 UV-TOC 공정에서 UV조사강도, 유량, 용존산소 및 유입수 TOC를 분석하여 해당 공정의 성능평가법을 도출하고자 하였다. 또한 과산화수소 발생 조건을 파악하여 이를 반영하고자 하였다. 이를 바탕으로 향후 UV-TOC공정의 설계 운영 및 성능평가 방법을 구축할 것으로 기대된다. |
| 저자 | 방우혁, 이나래, 박승민, 박찬규 |
| 소속 | 한국산업기술시험원 |
| 키워드 | 고순도 공업용수; UV-TOC; 185nm; VUV; 성능평가 |
