학회 | 한국공업화학회 |
학술대회 | 2005년 가을 (10/28 ~ 10/29, 건국대학교) |
권호 | 9권 2호 |
발표분야 | 고분자 |
제목 | The synthesis and physical properties of polymethylsilsesquioxane with UV-curing functional groups |
초록 | 최근 디스플레이용 광학필름 사용의 증가 추세에 맞추어, 필름의 내구성 향상을 위한 코팅제의 필요성 또한 요구 되어 지고 있다. 이런 내구성 향상을 위한 코팅제에 사용되는 제료로 유무기 복합체가 많이 사용되고 있는데, 여기서는 실리콘 소재를 중심으로 하는 졸-겔 타입의 폴리실세스퀴옥산을 선택하였다. 실리콘 원자는 4관능성기를 가지며, 유무기 복합 실세스 퀴옥산은 Si-O결합 3개을 갖고 한곳에 유기 치환체를 가지는 물질을 일컫는다. 유기치환체에 특성에 따라 유무기 복합 실세스퀴옥산의 특성을 조절 가능하다. 따라서 본 연구에서는 UV 경화가 가능한 졸-겔 타입의 새로운 유무기 복합 실세스퀴옥산의 합성하였다. 그리고 다양한 광 개시재에 따른 경화 속도를 Photo DSC를 이용하여 측정하였고, 1H, 29Si NMR, ATR 로 구조를 분석하였으며, DSC와 TGA로 열 특성을 분석하였다. |
저자 | 이희승1, 문두경1, 황승상2, 홍순만2 |
소속 | 1건국대, 2한국과학기술(연) |
키워드 | MTES; Trimethoxysilylpropylmethacrylate |