| 초록 |
현재 각광받는 디스플레이 산업에 사용되는 유리는 고 굴절율 특성과 저 융점의 특성을 갖는 납유리를 주로 사용하고 있다. 본 연구는 에칭격벽 형성 시 사용되는 유리조성물 중 PbO-SiO2-B2O3계 유리에 대하여 산성 환경에서 유리 내 금속이온의 용출거동을 관찰하였다. 괴상으로 제조된 유리는 40℃로 유지된 HNO3 수용액을 농도와 용출시간을 달리하여 시편을 처리하였다. 시편은 유도결합 플라즈마 질량 분석기(ICP), X-선 광전자 분광기(XPS), 라만분광기를 이용하여 유리구조 분석과 유리표면의 이온용출형태를 분석하였다. 그 결과로 용출 후, 질산수용액 내에는 Pb(1.5~5.5%), B(0.8~3%)이온이 주로 검출되었으며, 미량의 Si, Al, Ti, Zr도 검출 되었다. XPS의 결과로부터, O1s 궤도 내에는 NBO(Non-Bridge Oxgen)과 BO(Bridge Oxgen)이 혼재되어 나타난다. 산 처리에 따라 NBO는 그 양이 증가되는 반면에 BO는 상대적으로 감소하는 경향을 보여, NBO:BO의 비는 산 처리 전 1:2.7에서 산 처리 후 1:0.6으로 변화하였다. 그리고 용출 전 유리의 Pb4f 궤도에 비해 산 처리 후 Pb4f 궤도는 약 80% 이상 감소하는 것으로 산 처리과정에서 Pb 금속이온이 선택적으로 용출되었음을 알 수 있었다. |
