| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2012년 봄 (04/25 ~ 04/27, 제주 ICC) |
| 권호 | 18권 1호, p.939 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 저온플라즈마를 이용하여 Si-Al에 hexamethyldisiloxane(HMDSO) 코팅 후 아민증착 불균일계 염기촉매 제조 |
| 초록 | 균일계 염기촉매의 경우 환경문제 그리고 재사용의 어려움이라는 단점을 가지고 있다. 그에 비하여 불균일계 염기촉매는 이러한 문제를 해결 할 수 있다. 지금까지는 아민을 고정하는 과정에서 유기아민을 사용하여 제한성과 제조시에 복잡한 과정을 거쳐야하는 단점이 있다. 본 연구에서는 저온 플라즈마 중합법을 이용하여 지지체 표면에 HMDSO(hexamethyldisiloxane)를 코팅 한 후 1,2-diaminocyclohexane(DACH)를 증착시킴으로써 아민이 고정된 불균일계 염기 촉매를 제조하였다. 증착실험은 RF discharge power와 처리시간을 변화시켜가며 최적의 조건을 찾았고, ESCA와 FT-IR에 의해 화학적 구조를 확인하였다. 염기촉매의 활성도는 Ethylcyanoacetate(ECA)와 Benzaldehyde(BA)에 의한 Knoevenagel반응에 의해 측정하였다. |
| 저자 | 심혜정, 조동련, 양은주, 김해나 |
| 소속 | 전남대 |
| 키워드 | 저온플라즈마; 염기촉매; 아민증착 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
