| 초록 |
미래의 대용량 광통신 시스템에 있어서 광커플러, WDM/FDM, 광증폭기 등의 복합소자가 필수적이다. 이러한 다양한 기능의 광부품을 단일 기판상에 구현하기 위해 평면형 광소자(Planar Lightwave Circuit: PLC)에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다. 본 연구에서는 화염가수분해증착법(Flame Hydrolysis Deposition: FHD)을 이용하여 실리콘(Si)/실리카(SiO2) 광도파막을 제조하였고, Solution Doping법을 이용하여 Er3+dopant를 첨가하였다. 이 Er 첨가된 실리카 박막은 고밀도 플라즈마원인 유도결합 플라즈마(ICP)를 이용하여 광도파로를 제작하였으며 시각 공정 시 주요 변수인 Source power, Bias voltage, CF4flow rate, CF4/Ar ratio 등을 변화시키며Etching rate, Selectivity, Dimension loss, Sidewall roughness, Polymer deposition rate, Profile slope등을 SEM, XPS, Surface profiler 을 이용하여 식각 조건을 구하였다. |
