| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2019년 가을 (10/09 ~ 10/11, 제주컨벤션센터) |
| 권호 |
44권 2호 |
| 발표분야 |
기능성 고분자 |
| 제목 |
Characrerization of the silica layer derived from perhydropolysilazane (PHPS) by rapid conversion process |
| 초록 |
Perhydropolysilazane (PHPS)은 Si-N의 결합을 갖는 무기화합물로 용액공정이 가능하고 경화 후 유리와 유사한 구조 (SiOx)를 형성하여, 고투명성, 고경도 및 절연특성을 요구하는 분야에 응용 범위가 큰 물질이다. PHPS의 경화 방법으로는 암모니아수, 과산화수소수, 아민 촉매를 이용한 화학적 경화 방법과 진공 UV, Eximer 레이저, 플라즈마 처리 등의 물리적 경화 방법이 보고되었다. 본 연구에서는 PHPS의 경화를 위한 사전 공정으로 펄스 UV 혹은 열처리 공정을 도입하였으며, 이 후 화학적 처리 (암모니아 수) 벙법을 이용하여 빠른 시간 내에 투명하고 깨끗한 실리카 박막을 형성하였다. 형성된 실리카 방막의 화학적 구조 및 경화 정도를 평가하기 위하여 FT-IR을 이용하였으며, 광학 특성 및 표면 특성을 평가하였다. |
| 저자 |
박성만, 신교직, 장기철, 백정주, 김영훈, 송광식
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| 소속 |
한국생산기술(연) |
| 키워드 |
perhydropolysilazane; PHPS; ammonia water; Pulse UV
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