| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2002년 봄 (04/12 ~ 04/13, 서울대학교) |
| 권호 | 27권 1호, p.309 |
| 발표분야 | 특별 심포지엄 |
| 제목 | New positive photosensitive polyimide based on poly[(amic acid)-co-(amic ester)] |
| 초록 | 전기 전자 회로가 고집적화, 정밀화 됨에 따라 PSPI(photosensitive polyimide)에 대한 연구는 계속 성장해 왔다. 특히 PSPI는 열적, 전기적, 기계적인 성질이 매우 우수하여 내부 절연제와 buffer coating과 같은 기능성 재료로서 반도체에 응용되고 있다. 그러나, PSPI는 기존의 복잡한 pattering공정을 간단히 할 수 있고 hydrazine과 같은 유해한 에칭제를 사용하지 않는 장점이 있지만 낮은 용해도와 가공성이 문제점으로 지적되고 있다. 본 연구에서는 poly(amic acid) 전구체에 빛에 의해 분해될 수 있는 감광성 group인 4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyl ester를 포함하는 새로운 positve type의 photosensitive polyimide precursor인 poly[(amic acid)-co-(amic ester)]를 합성하였다. 이렇게 합성된 고분자의 구조는 FT-IR, 1H-NMR로 확인하였고 DSC와 TGA를 이용하여 열분석 하였다. 또한 UV조사에 의해 감광성 group인 1-(ethyl)-4,5-Dimethoxy-2-nitrobenzyl group이 분해되면서 고분자가 알칼리 현상액에 대한 용해도가 증가함을 확인하였으며, 이를 이용하여 positive pattern을 형성할 수 있었다. |
| 저자 | 정민국, 이명훈 |
| 소속 | 전북대 |
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