| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2007년 봄 (05/11 ~ 05/12, 계명대학교) |
| 권호 | 11권 1호 |
| 발표분야 | 나노기술 |
| 제목 | 초임계 이산화탄소를 이용한 효율적인 수용성 웨이퍼 에칭 residue의 제거 방법 |
| 초록 | 종래의 습식 식각/세정에서 사용하는 식각액 또는 세정액은 수십 dynes/cm 정도의 표면장력을 갖기 때문에 이들 단계에서 일어나는 식각액 또는 세정액의 흐름이나 또는 건조 과정에서 모세관 압에 의하여 큰 종횡비를 갖는 하부 전극을 넘어지게 만들 수 있으며, 또한 깊고 종횡비가 큰 부분에서 표면과 잔류물을 충분히 적시지 못하는 문제점이 있다. 이를 해결하기 위하여 건식 에칭법인 초임계 이산화탄소법이 연구 되고 있으나 에칭 과정에서 생성되는 수용성 잔류물을 제거하는 방법이 기술된 바는 없다. 따라서, 초임계 이산화탄소와 특수 첨가제(EOFB)와 순수(DI water)를 이용하여 패턴 사이에 잔류하는 잔여물을 효과적으로 제거할 수 있는 공정 조건을 조사하였다. |
| 저자 | 김승호, 임권택, 정재목, 이민영 |
| 소속 | 부경대 |
| 키워드 | super critical carbon dioxide; etching; cleaning |
