| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2004년 가을 (11/05 ~ 11/05, 인하대학교) |
| 권호 | 10권 2호 |
| 발표분야 | 제 7회 신소재심포지엄 |
| 제목 | 반도체세정 기술개발 정책 |
| 초록 | Device 집적도 향상에 따라서 wafer 표면 오염 level의 보다 tight 한 control이 요구되어지고 있다. 각종 필름의 박막화가 진행되면서 증착 전 세정 방법 선택이 필름 특성에 결정적인 영향을 미치고 있다. 또한 디바이스 특성 향상시키기 위해서 도입되는 신규 물질에 대한 검증이 시급하게 필요한 상황이다. 환경적인 측면에서도 세정에 사용되는 약품과 초 순수 양 감소가 절실하다. 본 발표는 이러한 문제 해결을 위한 세정 연구 방안을 제시하고자 한다. |
| 저자 | 안동준, 최근민 |
| 소속 | 하이닉스반도체 |
| 키워드 | 반도체 세정 |
