| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2003년 가을 (10/10 ~ 10/11, 부경대학교) |
| 권호 | 28권 2호, p.9 |
| 발표분야 | 특별 심포지엄 |
| 제목 | Nanoimprint Lithography 기술 동향 및 전망 |
| 초록 | Nanoimprint Lithography 기술은 선폭 100 nm 이하의 패턴을 저가로 제작할 수 있는 차세대 Lithography의 하나로 주목받고 있다. 이 기술은 스탬프의 패턴을 resist에 기계적으로 복제하는 일종의 Molding 방법이다. 연구가 시작된 지 10년이 안되었지만, 다수의 상용 장비 업체가 등장하는 등 실용화를 위한 연구가 세계적으로 활발하다. 그러나, 이 기술이 EUV Lithography 등 다른 차세대 기술과 경쟁하기 위해서는 Defect Control 및 Overlay Accuracy등의 문제점을 극복해야 한다. 본 강연에서는 Nanoimprint Lithography의 기술 현황을 개괄하고, 현재 기술 수준에서 상업화가 가능한 응용처를 소개하고자 한다. |
| 저자 | 이기동 |
| 소속 | LG전자기술원 소자재료(연) |
| 키워드 | Nanoimprint; Lithography |
