| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2013년 봄 (05/01 ~ 05/03, ICC JEJU) |
| 권호 | 17권 1호 |
| 발표분야 | 정밀화학소재분야의 최근지재권 동향 |
| 제목 | 강한 특허권의 창출과 활용을 위해 연구자가 특허출원시 유의할 사항 |
| 초록 | 2012년3월15일자로 한미 자유 무역 협정(韓美自由貿易協定, 이하 ‘한미 FTA’라 함)이 발효되었고, 후속 법률 개정 절차에 따라 우리나라 특허법이 일부 개정되었다. 개정 특허법에서는 이러한 공지예외적용 주장이 가능한 기간이 6개월에서 12개월로 연장되었으며, 등록지연으로 인한 특허권의 존속기간의 연장제도가 추가로 도입되었다. 이러한 제도적인 변화로 인해, 출원인에 의한 자발적 공개행위에 대하여 특허출원에 필요한 충분한 시간적 여유가 부여되었고, 과도한 등록 지연으로 인하여 실질적으로 특허권의 존속기간이 단축되는 효과를 어느 정도 방지할 수 있게 되었다. 여기서는 이러한 공지예외적용을 주장할 수 있는 기간의 확대에 따른 특허출원인의 출원전략과 여기서 유의해야 할 점에 대해서 소개하고, 등록지연에 따른 특허권의 존속기간 연장제도를 활용하기 위해서 주의해야 할 점들을 제시함으로써, 연구자들이 보다 강한 특허권이 창출과 활용에 도움을 주고자 한다. |
| 저자 | 소재현, 강현모 |
| 소속 | 특허법인 화우 |
| 키워드 | 특허출원; 공지예외적용주장; 존속기간 연장 |
