| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2005년 가을 (11/10 ~ 11/11, 한양대학교) |
| 권호 | 11권 2호 |
| 발표분야 | 구조재료 |
| 제목 | 알루미늄의 산화피막 형성에 기여하는 첨가원소의 영향 |
| 초록 | 알루미늄 합금은 전성 및 연성이 좋고 비중이 작으며, 열 및 전기의 전도성이 크고 대기 속에서의 내식성이 강하기 때문에 판재, 박재, 봉재, 선재, 관재 등 모든 형태로 가공되어 이용되고 있다. 그 가벼운 점을 이용하여 항공기, 자동차 ,선박, 철도 등에 응용되고 있으며, 알루미늄의 내식성과 인체에 해가 없는 점 때문에 식품공업 및 식기류 등에도 널리 이용되고 있다. 이밖에 페인트, 알루미늄박에 의한 포장이나 건축 재료 등 그 용도가 점점 확대되고 있다. 알루미늄을 공기 중에 방치시키면 산화물의 박막이 생성되어 광택을 잃지만 내부까지는 침식되지 않는다. 이렇게 알루미늄의 내식성이 좋은 이유는 그 표면에 생기는 산화피막이 보호피막으로 작용하기 때문이다. 그러나 일반적으로 대기 중에서의 내식성은 좋으나 그 부식속도는 대기 중의 습도와 불순물 존재 등에 따라 달라진다. 중성수용액에서 내식성은 좋으나 염화물 용액 중에서는 나빠지며 산성용액 중에서 수소이온농도의 증가에 따라 부식이 증가하고, 황산과 회질산 및 인산 중에서는 부식되며 특히 염산중에서는 급격하게 부식된다. 그러나 80%이상의 질산에는 잘 견디고 기타 유기산에는 내식성이 좋다. 또한 암모니아수 중에서는 잘 견디나 기타의 알칼리수용액 중에서는 침식된다. 본 연구에서는 알루미늄의 산화피막 형성에 기여하는 첨가원소의 영향을 조사하였다. 열처리 온도와 시간을 달리하여 알루미늄합금 표면에 산화피막을 형성시켰으며, EDS 및 GDS(Glow Discharge Spectrometer), 그리고 XPS를 이용하여 분석하였다. |
| 저자 | 서승국1, 김복규1, 신수희2, 김명덕2, 노재승1 |
| 소속 | 1금오공과대, 2LG전자 |
| 키워드 | aluminum; oxide film; XPS; GDS |
