| 초록 |
은 나노와이어는 전기적, 광학적, 기계적인 성질이 뛰어나 OLED 혹은 OPV의 투명전극에 주로 사용되는 ITO의 대체물질로 주목 받고 있다. 하지만 은 나노와이어는 직경에 따른 산란광으로 인하여 ITO에 비해 낮은 Optical performance를 지니고 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해서는 직경 20nm이하를 가지고 있으며 높은 Aspect ratio를 가진 은 나노와이어의 합성이 요구된다. 본 연구에서는 “High-Pressure Polyol process” 합성법을 이용하여 직경 20nm이하를 가지며 1000 이상의 Aspect ratio를 가지는 은 나노와이어를 합성하였으며 특히, “High-Pressure Polyol process”에서 여러 가지 Inorganic 또는 Organic halogen 염을 사용하여 압력의 변화에 따른 은 나노와이어의 성장 메카니즘의 차를 설명하였다. 또한, 본 실험에서는 Photo lithography 공정 을 통해, 합성된 은 나노 와이어의 투명전극 필름에서의 미세 Patterning 기술을 정립하여 플렉서블 LCD디바이스에의 응용가능성을 확인하였다. |
