| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교) |
| 권호 | 7권 1호, p.309 |
| 발표분야 | 촉매/반응공학 |
| 제목 | 상압에서 Hydoxyl Radical에 의한 염색폐수의 촉매습식산화에 대한 연구 |
| 초록 | 본 연구에서는 H2O2와 Cu/Al2O3촉매를 사용한 촉매습식산화는 반응성염료를 처리하기 위해서 적용되었다. 이 방법은 TOC와 색도를 제거하기 위한 효율적인 공정으로 증명되었다. 제거효율은 H2O2의 분해로 생성된 히드록시 라디칼의 소비에 크게 관계하였다. 산화속도는 H2O2와 촉매의 양에 영향을 받았다. 적은 양의 H2O2를 사용하였을 때 색도는 제거되었지만 TOC의 농도는 변하지 않았다. 이 결과는 산화공정에는 두 단계가 포함되는 것을 알 수 있다. 첫 번째는 큰 염료분자가 더욱 적은 유기물로 분해되고 그 다음 이들이 연속적으로 이산화탄소와 물로 분해된다. Cu/Al2O3촉매에서 구리입자의 표면은 H2O2의 히드록시 라디칼로의 분해활성 사이트 뿐만 아니라 유기염료분자들의 흡착을 위한 사이트로 제공되어진다. 이런 결합된 촉매의 역할은 연속적인 H2O2의 활성과 물 속에 존재하는 반응성 염료의 완전한 산화를 촉진시키게 된다. |
| 저자 | 김둘선1, 김성철2, 이동근 |
| 소속 | 1경상대, 2환경보전(연) |
| 키워드 | Hydroxyl Radical; Catalytic Wet Oxidation; Dyehouse Effluents; Atmospheric Pressure |
| 원문파일 | 초록 보기 |
