| 초록 |
본 연구에서는 실리카 나노입자 표면에 dipodal 형태를 가지는 bis[3-(trimethoxysilyl)propyl]amine(BTMA) 실란커플링제로 개질하여 N-H기를 도입 한 후 개질 된 실리카 표면에 epoxide기를 가지는 glycidyl methacrylate(GMA)를 사용하여 광중합 반응성을 가지는 methacrylate기를 도입하였다. GMA의 개질 시간, 온도 및 농도의 변화가 BTMA의 N-H기와 GMA의 epoxide기의 결합반응에 미치는 영향을 Fourier transform infrared spectroscopy(FTIR), Elemental analysis(EA), Solid state nuclear magnetic resonance spectroscopy(NMR) 및 Thermogravimetric analysis(TGA) 법을 사용하여 분석하였다. BTMA로 개질 된 실리카를 GMA로 처리하면 실리카 표면에 결합되어 있던 BTMA의 N-H기에 GMA의 epoxide기가 열리면서 methacrylate기가 도입되는 것을 확인 할 수 있었다. |
