| 초록 |
표면처리 기술은 표면을 분자단위 수준에서 정교하게 제어하는 것이 중요하며, 원하는 특성을 갖는 표면의 설계에 있어서 고분자를 이용한 표면처리가 많이 응용되고 있다. 본 연구에서는 분자량과 PDI의 조절이 용이한 Nitroxide-Mediated Radical Polymerization 방법으로 랜덤 공중합체 및 블록 공중합체를 합성하였고, 이들을 SiO2 기판 표면 위에 단층으로 결합하여 표면을 친유기화 하였다. 반응 밀도가 높고, 균일하게 개질된 표면을 얻기 위하여 먼저 반응 표면에 기능기를 활성화하였으며, SiO2 기판 표면에 효과적으로 결합할 수 있도록 기능기를 갖는 공중합체를 도입하였다. SiO2 기판 표면에서 블록 공중합체가 형성하는 나노구조의 배향을 제어하기 위한 방법으로 간단한 용매 흐름 방법을 이용하여 블록 공중합체를 배향한 후, AFM을 통하여 모폴로지를 확인하였다. 또한 배향된 SiO2 기판 위에 금속입자를 증착하여 개질된 SiO2 표면에서의 공중합체 배향이 금속입자의 증착에 미치는 영향을 살펴보았다. |
