| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2005년 가을 (11/10 ~ 11/11, 한양대학교) |
| 권호 | 11권 2호 |
| 발표분야 | 나노 및 생체재료 |
| 제목 | 나노 임프린트 패턴을 이용한 CdS 나노 구조 제작 |
| 초록 | 태양전지 효율저하의 원인 중 하나는 여기 된 전자-정공 쌍의 분리가 p-n접합부 근처에서만 발생하고 그 이외의 부분에서 발생된 자유전자 정공이 전류 흐름에 기여하지 못하고 재결합한다는 점이다. 이를 개선하기 위해 p-type 반도체 흡수층 내부에 n-type 반도체 나노 로드를 위치시킨 형태의 전지구조가 연구되고 있다. 이러한 형태의 전지 구조가 가지는 장점은 나노 사이즈로 인한 넓은 p-n접합 면적으로 인한 전자-정공 쌍의 분리가 보다 많이 발생하며, 또한 n-type 나노 막대가 자유전자의 이동 통로의 역할을 하여 전자-정공의 재결합율을 줄인다. 이러한 동기로 인해 n-CdS 나노 막대 및 구조에 대한 연구 및 실험을 수행하였다. 전착법(Electro-deposition)에서 working electrode로는 일반적으로 금속전극이 사용되나, 본 실험에서는 ITO 반도체전극을 사용하였으며, 이는 ITO glass 를 전면전극으로 사용하여 금속전극을 전면전극으로 선택했을 시 발생할 입사광의 손실을 줄이려는 의도이다. 우선적으로 ITO glass 에 전착법으로 CdS 박막 증착에 관한 실험을 하였으며, 전압-전류 특성, 농도, 온도, pH 변화에 따른 CdS 막질에 관한 자료들을 기초로 최적의 조건을 찾으려 하였다. n-type CdS 나노 막대의 제작을 위해 ITO glass 위에 균일한 높이와 지름의 미세공을 가지는 나노 임프린트 패턴을 부착하여 전착법을 실행, 패턴 제거 후 균일한 크기를 가지는 CdS 나노 막대 및 구조체들을 ITO glass 기판 위에 얻었다. |
| 저자 | 김성진, 김동환 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | CdS; Electrodeposition; Nano imprint |
