| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2005년 가을 (10/28 ~ 10/29, 건국대학교) |
| 권호 |
9권 2호 |
| 발표분야 |
환경,에너지 |
| 제목 |
한외여과막을 이용한 정수처리에서 고분자 전해질 코팅제의 물리화학적 영향 |
| 초록 |
본 연구에서는 고분자전해질을 한외여과막의 표면에 코팅하여 NOM 제거율과 막투과 성능을 고찰하였다. 음이온성 전해질 PAA(polyacrylic acid)를 첨가한 막투과도는 주입량에 비례하여 점차 감소하였고 특히 0.1mM 이상이 되면 급격하게 감소하였다. 또한 여과저항값과 총유기탄소 제거율은 주입량에 비례하여 증가하였다. 반면 양이온성 전해질 PDMA- ECH-EDA(polydimethylamine-co-epichlorohydrin-co- ethylenediamine)을 첨가한 경우 흥미롭게도 막투과도는 주입량에 따라 감소하다가 다시 증가하는 현상을 보였고 이에 여과저항값의 변화도 증가하다가 다시 감소하는 현상을 보였다. 총유기탄소 제거율도 주입량 0.1mM에서 최대의 총유기탄소 제거율을 보였다. 즉, 고분자 전해질의 종류에 따라 막투과도와 총유기탄소 제거율이 차이를 보이는데 PDMA-ECH-EDA 코팅은 코팅층 형성시 구조적 변화로 인하여 최적의 주입량이 존재한 것으로 추측하였다. 따라서 NOM 제거시에 코팅층의 제타전위를 측정하여 NOM과의 상호연관성을 알아보고 고분자 전해질의 주입량에 따라 코팅된 막 표면을 비교하고 이러한 코팅층의 안정성을 측정하였다. |
| 저자 |
정지현, 추광호
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| 소속 |
경북대 |
| 키워드 |
한외여과막; 고분자 전해질; NOM; 구조적 변화
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