| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2006년 봄 (04/06 ~ 04/07, 일산킨텍스) |
| 권호 |
31권 1호 |
| 발표분야 |
분자전자 부문위원회 |
| 제목 |
TFT-LCD Array용 Negative형 Polyimide 층간절연막의 합성 및 물성평가 |
| 초록 |
현재 TFT-LCD의 제작공정에 있어 TFT(Thin Film Transistor)소자를 보호하는 Passivation 층은 Benzocyclobutane(BCB)를 이용한 열경화 공정으로 진행되고 있다. 하지만 열경화 공정은 생산성 및 해상도가 저하되고, Dry Etch등 공정 적용에 있어 제약이 많다. 또한 환경 친화적이지 못한 공정이라는 단점이 있다. 그러므로 Photo Process를 이용할 수 있는 고해상도, 고내열성 및 투과성이 우수한 TFT-LCD Array용 층간절연막에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 광중합형 Imide 유도체들의 분자구조 설계 및 합성을 통해 TFT-LCD Array용 Negative형 층간 절연막 재료를 제조하고, 이의 광학적, 열적 특성을 평가하였다. 그리고 제조된 Negative형 층간 절연막 재료를 이용하여 via hole 공정을 위한 Photolithography 특성을 평가하였다. |
| 저자 |
김효진1, 김정무1, 김현석1, 김순학1, 허영준2, 박이순1
|
| 소속 |
1경북대, 2첨단디스플레이 제조공정 및 장비 (연) |
| 키워드 |
TFT-LCD; Array; Imide; Photosensitive; passivation
|
| E-Mail |
|
