| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 가을 (10/22 ~ 10/23, 경남대학교) |
| 권호 | 5권 2호, p.4485 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)를 이용한 다이아몬드 박막 증착 |
| 초록 | 최근 화학증착법에 의한 다이아몬드 박막 형성에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.이 기술에는 DC plasma 또는 RF plasma를 이용한 화학증착법, hot filament 화학증착법(HFCVD), microwave plasma 화학증착법(MPCVD) 및 electron cyclotron resonace plasma화학증착법(ECR CVD) 등이 있다. 이 중에서 MPCVD방법은 보다 낮은 증착 온도에서 양질의 다이아몬드 박막을 형성할 뿐만 아니라, 다른 CVD 장비와 비교하여, 제조방법이 간단하고 반응기 안에서 전극이 없어 그로 인한 오염문제가 없어, 다이아몬드 박막제조에 많이응용되고 있다. 본 연구에서는 CH4와 H2 gas를 사용하여 MPCVD법으로 다이아몬드 박막을 형성하였고, 전처리 공정, Plasma Power 및 증착 시간을 공정변수로 하여 박막 구조특성을 조사하였다. |
| 저자 | 원종각, 김종성, 홍근조, 권상직 |
| 소속 | 경원대 |
| 키워드 | MPCVD; Ultrasonification; Plasma |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
