화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교)
권호 7권 1호, p.1945
발표분야 재료
제목 원자층 화학증착법을 이용한 나노구조 형성
초록 지금까지 반도체 제조기술 발전은 소자의 소형화를 통해 성능 및 직접도를 높이는 방향으로 진행되어 왔다. 집적회로는 100나노미터의 벽을 넘으려 하고 있으며 메가비트 메모리소자에서 기가비트로 진입하는 단계에 접어들고 있다. 하지만 현재의 기술은 궁극적인 한계에 이른 상태이며, 이를 극복하기 위해서는 새로운 박막재료의 개발 및 초고집적 공정에 적용 가능한 새로운 공정기술의 개발을 필요로 하고 있다.
저자 이시우, 남원희, 김원규
소속 포항공대 화공과 정보전자재료화학연구실
키워드 원자층 화학증착법; 나노구조
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