학회 | 한국고분자학회 |
학술대회 | 2002년 가을 (10/11 ~ 10/12, 군산대학교) |
권호 | 27권 2호, p.348 |
발표분야 | 분자전자 부문위원회 |
제목 | 광경화성 고분자의 경화 조건에 따른 반응속도 및 광학특성 변화 연구 |
초록 | 본 연구에서는 다중모드 POF 적용 waveguide 소자에 이용할 수 있는 고분자 재료를 조사하고자 고분자의 굴절율을 조절하는 인자에 관하여 조사하고자 하였다. 광 반응성 고분자들의 반응 조건을 변화시키며 경화속도에 미치는 영향을 spectrometer를 이용하여 조사하였고, 광 경화 후 변화하는 굴절율의 분포를 프리즘 결합 방법을 이용하여 측정하였다. Acrylate계 광중합성 monomer 그리고 thiol (-SH)과 ene (C=C) 계를 이용하여 monomer의 구조 및 조성을 변화시키며 광개시제를 첨가하여 경화시켰다. Thiol-Ene 광 경화 반응은 acrylate계 시료의 광 경화 반응과 다르게 대기 중 O2의 방해를 받지 않고, 빠른 경화 속도를 보이며, 다양한 substrate에 좋은 접착력을 가지면서 높은 굴절률을 갖는 특징이 있다. 본 연구에서는 위 시료들의 관능기 종류 및 양론비를 변화시키고 개시제의 농도를 변화시켜 조건에 따른 굴절율의 변화를 유도하였다. 시료들은 스핀 코팅에 의하여 박막화 하였으며, 이 박막을 다양한 온도조건에서 UV (365 nm) 광원을 조사하여 경화하였다. 또한 광 경화시 모노머의 특정 관능기의 반응속도 변화를 FTIR, FT-Raman, 그리고 UV/Vis spectrometer를 이용하여 살펴보았으며, 경화 조건에 따라 경화된 박막의 굴절율의 변화를 Prism Coupling과 ellipsometer를 이용하여 측정하였다 |
저자 | 위인전1, 이원선*2, 이종하, 송기국 |
소속 | 1경희대, 2*삼성전자 |
키워드 | refractive index; thiol |