| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 가을 (10/22 ~ 10/23, 경남대학교) |
| 권호 | 5권 2호, p.2401 |
| 발표분야 | 촉매/반응공학 |
| 제목 | PS, SAN 및 ABS의 광 열화 속도론 |
| 초록 | 최근 광 화학 반응(Photochemical Reaction)을 이용해서 새로운 무기, 유기 및 고분자재료의 소재개발을 위한 연구가 매우 활발히 진행되고 있으며 이중 광범위한 연구영역이 가능한 것이 광 중합반응을 이용한 고분자재료이다. 광 중합반응은 종래의 열 중합방식에 비교하여 1) 낮은 온도에서 중합이 가능 2) 중합속도와 분자량 분포 조절이 가능 3) 짧은 시간에 높은 전화율을 얻을 수 있고, 4) 중합 후 폐용매의 폐기가 적으므로 재료합성에 많이응용되고 있다. 광 열화(Photochemical Reaction)란 빛(자외선)에 의하여 고분자의 합성이나가공과정에서 분자구조의 파괴나 특성을 저하시키는 것으로, 이러한 현상을 피하거나 제거해서 광 안정화(Photostabilization)시켜야 한다. |
| 저자 | 설수덕 |
| 소속 | 동아대 |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
