| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1997년 봄 (04/25 ~ 04/26, 동국대학교) |
| 권호 | 3권 1호, p.921 |
| 발표분야 | 에너지/환경 |
| 제목 | 질산 매질에서 아스코빅산의광분해 |
| 초록 | 질산매질에서 UV광조사에 의한 아스코빅산의 분해연구를 수행하였다. UV광원은 2537옹스트롬 파장을 방출하는 수은램프가 사용되었다. UV광조사에도 불구하고 아스코빅산 자체는 분해되지 않지만 질산매질하에서는 UV광조사에 의해 쉽게 분해되었다. UV광조사에 의해 NO3-으로 부터 발생되는 OH 라디칼이 아스코빅산을 분해시킨다는 것을 알았다. 아스코빅산의 분해율은 질산0.5M 부근에서 최대를 이루다가 산소 라디칼이온과 NO3- 와의 반응때문에 질산농도 증가에 따라 점차로 감소하였다. |
| 저자 | 김영환, 김응호, 유재형 |
| 소속 | 한국원자력(연) |
| 키워드 | Photodestruction; Ascorbic; Nitric; Acid |
| 원문파일 | 초록 보기 |
