| 초록 |
대부분의 고분자 소재들은 페인트나 잉크 등을 도장하거나 접착제 등을 사용하여 다른 소재들과 접합하고자 할 때 접착력이 떨어지는 문제점이 있다. 페인트나 잉크등이 강하게 접착되려면, 우선 이들이 잘 적시도록 피착제의 표면에너지가 높아야 하고, 피착제의 표면에는 페인트나잉크의 고체 성분들과 화학결합, 수소 결합, 극성결합, 또는 acid-base interraction 등과 같은 강한 결합을 일으킬 수 있는 기능기 존재 등이 요구된다. 그러나 대부분의 고분자 소재들은 표면에너지가 낮은 편이며, 반응성도 거의 없다. 플라즈마는 이온화되어 있으면서 전체적으로 전기적 중성을 띄고 있는 기체를 가리키며, 일반적으로 고분자 표면처리에 사용되는 플라즈마 가스는 비반응성 플라즈마(non-reactive plasma)와반응성 플라즈마(reactive plasma)로 분류된다. 이중 비반응성 플라즈마는 아르곤과 헬륨과 같은불활성 기체에 의한 표면처리로써 고분자 표면의 여기, 분자쇄의 절단, 제거 및 표면 라디칼이 생성되는 것으로 알려져 있다. 반응성 플라즈마 처리의 경우는 산소나 암모니아, CF4 와 같은 플라즈마 처리에 의해 카보닐, 카복실, 아민기 또는 플루오르기 등 특정 화학종을 피처리 고분자 표면으로 도입함으로써 시료 표면의 화학조성 및 화학반응성이 변화하는 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 PE와 PP 등의 필름에 rf-플라즈마를 사용하여 O2, N2, O2/N2 에 대한 혼합비등의 플라즈마 가스, 반응시간, 플라즈마 출력 등을 변수로 플라즈마 처리를 수행하고 이에 따른접촉각을 구하여 최적조건을 조사하였다. 또한 각 조건에서 고분자 표면에 미치는 플라즈마 가스의 영향, 도입된 기능기와 접촉각과의 관계를 FT-IR과 XPS 등의 분석을 통하여 개질된 고분자 필름의 표면특성을 조사하였다.
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