| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2008년 봄 (04/10 ~ 04/11, 컨벤션 뷰로(대전)) |
| 권호 |
33권 1호 |
| 발표분야 |
고분자 구조 및 물성 |
| 제목 |
Free Standing PMMA 박막의 열적∙기계적 특성연구 |
| 초록 |
현재 반도체 산업에는 다양한 형태의 고분자 소재가 이용되고 있다. 그 하나의 예로 패터닝 공정 중에 PR(photoresist)용으로 사용되는 PMMA 박막은 최근 미세회로 패턴의 요구가 높아지면서 박막의 두께는 수 ㎛에서 수백 ㎚로 낮아지고 있다. 공정이 진행되는 동안 박막 자체의 열적∙기계적 성질은 최종 제품의 성능에 크게 영향을 미친다. 그러나 박막의 경우 이들 성질을 규명하기 위한 시도가 극히 제한적으로 이루어지고 있는 실정이다. 따라서 본 연구에서는 다양한 두께의 박막을 free standing으로 제작하여 그 성질을 조사하였다. 본 연구에서는 PMMA를 chloroform에 녹여 실리콘웨이퍼 상에서 spin coating으로 박막을 제작하고 이를 free standing으로 분리하여 열적 성질을 DSC로 기계적 성질을 Nano-UTM을 이용하여 조사하였다. |
| 저자 |
남정은1, 이종근1, 배종성1, 오충석1, 이학주2
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| 소속 |
1금오공과대, 2한국기계(연) |
| 키워드 |
thin film; free standing film
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