| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2007년 가을 (11/02 ~ 11/02, 성균관대학교) |
| 권호 |
13권 2호 |
| 발표분야 |
반도체재료 |
| 제목 |
후속 열처리에 따른 ZnO 박막 특성 연구 |
| 초록 |
원자층 증착 (Atomic Layer Deposition)방법은 원자단위의 증착방법으로 인해 원하는 두께와 조성을 정밀하게 제어할 수 있고 균일한 두께의 박막 형성이 가능하여 중요한 증착 방법 중의 하나로 응용되고 있다. 그러나 낮은 공정 온도로 인한 증착된 박막의 특성이 저하되는 단점을 가지고 있어 후속 열처리 공정이 요구되어 지고 있다. 본 연구에서는 원자층 증착방법으로 Si(100)기판 위에 DEZn ((C2H5)2Zn) 소스와 산소 (O2) 가스를 사용하여 ZnO 박막을 증착시켰으며 후속 열처리 공정 영향을 평가하기 위해 열처리 온도 및 가스 분위기를 변화시켰다. 열처리된 박막의 특성은 PL (Photoluminescence), hall effect measurement, AFM (atomic force microscope), SEM (scanning electron microscope) 그리고 XRD (X-ray diffraction) 등의 방법을 이용하여 광학적, 전기적, 구조적 특성 등을 평가하였다. |
| 저자 |
김초롱1, 이재엽1, Zhao Xiuqin1, 임재영1, 류혁현1, 장지호2, 이홍찬2
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| 소속 |
1인제대, 2한국 해양대 |
| 키워드 |
ZnO; 원자층 증착 방법; atomic layer deposition; 열처리
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