| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2006년 가을 (11/10 ~ 11/11, 경희대학교(수원캠퍼스)) |
| 권호 |
10권 2호 |
| 발표분야 |
정보전자소재 |
| 제목 |
Photolithography 공정을 이용한 감광성 격벽 Paste의 조성에 따른 해상도 제어 |
| 초록 |
본 연구에서는 대형화가 되어 가고 있는 PDP의 흐름에 발맞추어 현재 사용되고 있는 샌드블라스트나 에칭법과 비교하여 공정이 간단하고 시간을 단축시킬 수 있으며 소모성 재료가 적은 장점을 지닌 Photolithography 공법을 이용하여 격벽을 형성하였다. Photoilthography 공정을 통하여 형성된 격벽 구조물을 형성할 때 격벽의 두께, 폭, 치밀성, 강도 등의 특성은 감광성 격벽 재료의 광감도, 현상 특성, 유리 기판과의 부착력 등에 의해 결정 된다. 따라서 본 연구에서는 고해상도 PDP 격벽 구조에 적합한 감광성 격벽 paste용 바인더 고분자를 합성하였으며 이에 적합한 광반응성 모노머, 광개시제 및 선폭을 제어할 수 있는 첨가제를 선정하여 Photolithography 공정에 맞는 최적의 paste 조성을 조사하였다. |
| 저자 |
김동주, 박이순, 허영준, 김순학, 김덕곤, 우창민
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| 소속 |
경북대 |
| 키워드 |
Photolithography; 감광성 격벽; 감광성 paste
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