| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2010년 봄 (05/13 ~ 05/14, 삼척 팰리스 호텔) |
| 권호 | 16권 1호 |
| 발표분야 | F. Multiscale Materials, Theory and Phenomena(멀티스케일 재료, 이론 및 현상) |
| 제목 | 고순도 텅스텐 분말을 이용한 후판 소재 제조 기술 개발 및 그 특성 연구 |
| 초록 | 전자산업이 급속히 발달함에 따라 초고집적형 반도체 소자 내에서 여러 용도로 고순도 텅스텐 금속의 수요가 몰리브덴, 탄탈륨 등과 함께 증가하고 있다. 국내에서는 기반기술의 부족, 원재료의 부재로 국내 생산이 취약한 수준이고 이들 금속은 전량 수입되기 때문에 산업의 대외 의존도가 높다. 그리고 국산화가 진행되고 있지만 국내 생산미달품목이 상당부분 존재하고 있어서 이를 개발하는 노력이 시급히 진행되어야 한다. 본 연구에서는 고순도, 고밀도 성형제품을 만들기 위해 고순도 텅스텐 분말을 이용하여 분말성형을 통한 후판 소재 제조를 실시하였다. 먼저 성형하기 전 제조한 고순도 텅스텐 분말의 입도 분석 및 X선 회절(X-ray diffraction) 분석을 실시하였고, 주사파 전자현미경으로 분말의 morphology 관찰을 하였다. 그리고 후판 소재를 제조하기 위해 성형 및 소결과정을 거쳐 후판 소재를 제조한 후 파단부의 morphology 관찰 및 기공도 분석을 실시하였고 소재의 기계적 특성 관찰을 위해 상대밀도 및 경도를 측정하였다. 균일한 기계적 특성을 가지는 후판 소재 제조를 위해 성형 (성형 압력, 분위기, 시간 등) 및 소결 조건을 고려하여 벌크화 과정에서의 미세구조 및 물리적 특성 관찰을 통한 최적의 공정 조건 도출을 시도하였다. |
| 저자 | 김건홍1, 이희민1, 공만식1, 홍현선1, 임성철2 |
| 소속 | 1고등기술(연), 2한국생산기술(연) |
| 키워드 | 텅스텐; 분말; 후판 소재; 성형; 벌크화 |
