| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2000년 가을 (10/20 ~ 10/21, 포항공과대학교) |
| 권호 | 6권 2호, p.4021 |
| 발표분야 | 에너지/환경 |
| 제목 | 화학적 침전법과 전기장에 의한 질산이온 제거 연구 |
| 초록 | 본 연구는 Jean-Pierre Letournenux의 미국 특허 5, 266, 201의 내용을 근거로 하여 연구되었던 질산이온 화학적 침전법의 경제적 및 기술적 진보를 위하여 국내에서 시판되고 있는 알루미나 시멘트와 생석회 또는 Ca(OH)2 그리고 전기장을 이용하여 물 속에 존재하는 질산이온(NO3-)을 제거하는 수행하였다. |
| 저자 | 윤진성, 조영상, 이상화 |
| 소속 | 한국과학기술(연) |
| 키워드 | |
| 원문파일 | 초록 보기 |
