| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2004년 가을 (10/29 ~ 10/30, 호서대학교(아산캠퍼스)) |
| 권호 | 10권 2호, p.1231 |
| 발표분야 | 공정시스템 |
| 제목 | 통계기법을 이용한 회분식공정에서의 이상진단 |
| 초록 | 화학공정에서의 회분식 공정에 대한 연구는 다른 연속식 공정과는 달리 공정으로부터 저장된 데이터가 3차원으로 구성되어 있다. 여기서는 반도체 공정에서의 etching 공정을 적용하여 이상진단을 수행하였다. etching 공정에서는 정상적인 시스템의 변화 자체가 크기 때문에 이상을 진단하는 것이 더 복잡해진다. 이 공정에 의해 3차원으로 구성되어 있어서 이를 기존의 연속식 공정의 이상진단에 사용되었던 통계기법이 아닌 다른 기법들을 적용해야 한다. 이 공정에서 임의적으로 Machine State Variables에 fault를 넣어 이상감지의 성능을 알아보았다. 여기서 사용된 기법드들은 MPCA(Multy-way PCA), straight PCA, PARAFAC, 및 FDA 방법들을 통해 회분식 공정에 대한 이상진단을 수행하였으며 또한 local 및 global 한 경우를 나누어서 이상감지의 성능을 비교 분석하였다. |
| 저자 | 정기택, 이창준, 송상옥, 윤인섭 |
| 소속 | 서울대 |
| 키워드 | fault; PARAFAC; PCA; MPCA; FDA |
| 원문파일 | 초록 보기 |
