| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 가을 (10/19 ~ 10/20, 한밭대학교) |
| 권호 | 7권 2호, p.5159 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | NiFe, CoFe 박막의 습식 식각 특성 |
| 초록 | 본 연구는 자성물질의 습식식각 뿐만 아니라, 건식식각 후 생기는 식각잔유물(Etch residue)을 제거하는방법으로도 활용되어질 수 있는 NiFe, CoFe 박막의 습식 식각 특성에 관한 연구이다. 실험은 자성물질 중에서 NiFe과 CoFe박막을 택하고, 식각용액(etchant)으로 HNO3와 HCl을 사용하여, 각 식각용액에 따른 자성박막들의 식각특성을 알아보았다. |
| 저자 | 변요한, 김혜인, 정지원 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | Wet etch; MRAM(Magnetic Random Access Memory) |
| 원문파일 | 초록 보기 |
