| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/09 ~ 05/10, 한양대학교(안산)) |
| 권호 | 12권 1호 |
| 발표분야 | 나노기술 |
| 제목 | scCO2를 이용한 다공성 low k 박막의 고성능 복원방법 |
| 초록 | MOS device의 집적화는 transistor의 집적도 향상과 더불어 보다 미세화 되고 있으며 금속간 절연물질이 중요한 이슈로 떠오르고 있다. 일반적으로 저유전막들은 기존 SiO2골격 구조에 methyl그룹을 첨가하여 격자내 미세기공을 형성함으로써 유전율을 2.5이하로 낮게 유지함은 물론 그 물성이 hydrophobic해 지므로 대기중의 수분흡수에 의한 악영향을 피할 수 있는 추가이점이 따른다. 그러나 다마신공정 특성상 저유전 막의 패턴화를 위한 Plasma ash공정이 필수적이나, Plasma 에너지에 의한 methyl group의 손상으로 인한 silanol group의 생성으로 말미암아 유전막의 물성이 hydrophilic하게 변화되는 손상을 피할 수 없다. 따라서 본 연구에서는 손상된 저유전 막질의 thermal전처리 및 적합한 보수약품을 scCO2내에 용해시켜 보수반응을 진행함으로써 손상된 저유전막의 보수반응을 극대화 하는 방법을 조사하였다. |
| 저자 | 정재목, 임주영, 임권택 |
| 소속 | 부경대 |
| 키워드 | scCO2 |
