| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2006년 가을 (11/03 ~ 11/03, 수원대학교) |
| 권호 | 12권 2호 |
| 발표분야 | 반도체 재료 |
| 제목 | Co 선택적 증착에 열처리가 미치는 영향(Effect of post-annealing on the Co selective deposition) |
| 초록 | 1. 서론 기존의 반도체 직접공정에 있어서는 금속박막을 증착하고 사진공정(Photolihography)이라는 광학적인 방법과 식각(Etching)공정을 이용하여 원하는 형상으로 만들어 왔다. 그러나 초고집적화에 따르는 기술적, 경제적 문제가 대두되면서 기존의 Top down 방식을 벗어나 원자나 분자 단위에서부터 자발적이고 선택적으로 진행되는 구조물을 형성하는 Bottom up방식에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 2. 실험 방법 및 분석 본 연구에서는 PDMS와 자기조립단분자막을 이용한 Micro contact printing방식과 MOCVD를 이용하여 Cobalt 박막의 선택적 증착에 관한 연구를 하였다. 선택적 증착을 위하여 OTS(Octadecyltrichlorosilane)을 이용하여 glass 표면의 성질을 변화시켰고, 이러한 표면과 glass 에서의 Co 박막 증착 특성에 대해서는 XPS, SEM, AFM을 이용하여 표면을 분석하였다. 또한 열처리를 통한 Co의 확산거동과 이것이 선택성에 미치는 영향에 대해 AFM을 통하여 관찰하였다. |
| 저자 | 박희정, 이재갑 |
| 소속 | 국민대 |
| 키워드 | 선택성; Co |
