| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2007년 가을 (11/02 ~ 11/02, 성균관대학교) |
| 권호 | 13권 2호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | RF-Manetron Sputtering에 의한 촉매금속 박막 증착 및 nanoparticle의 제어 |
| 초록 | RF-Manetron Sputtering에 의한 촉매금속 박막 증착 및 nanoparticle의 제어 백기종, 소병문, 문상진, 김남철 ([email protected]) PE-CVD(플라즈마 화학기상증착법)은 CNT를 합성할 때, 촉매금속 위에 성장시키는 것으로 잘 알려져 있다. 촉매금속으로 보통 Ni, Co, Fe등이 사용된다. 본 실험에서는 Ni, Co을 사용하였으며, RF-Manetron Sputtering을 이용하여 5.0 × 10 -6 Torr이하의 진공도를 초기진공으로 Ar기체을 주입하여 3.0 × 10-3 Torr로 압력을 일정하게 조절한 분위기에서 50nm이하의 두께로 증착하였으며, 열처리를 시행하여 nanoparticle을 형성시켰다. 본 실험에 쓰인 기판는 Si/SiO2(1000Å)을 사용하였고, 열처리는 600℃ ~ 900℃에서 10 ~ 60분 동안 시행하였으며, 분위기 가스로는 H2가스를 사용하였다. SEM을 이용하여 박막의 표면과 단면을 분석하였으며, AFM을 이용하여 박막 표면의 거칠기 등을 조사하였다. 열처리 온도와 시간에 따라 입자의 밀도, 크기가 변화됨을 알 수 있었다. Key Word : DC-Sputtering, Catalystic Metal, CNT, Ni, |
| 저자 | 김남철, 백기종, 소병문, 문상진 |
| 소속 | 공주대 |
| 키워드 | DC-Sputtering; Catalystic Metal; CNT; Ni; |
