| 초록 |
화학적 용액 성장법 (Chemical bath deposition, CBD)은 저온에서 반도체 물질을 증착하기 위한 매우 뛰어난 박막 증착 기법이다. 본 연구에서, NiO 박막은 상온에서 NiSO4, K2S2O8, 그리고 암모니아 수용액으로부터 화학적 용액 성장법에 의해 유리 기판과 SiO2 wafer 기판 위에 증착 되었다. 박막의 growth mechanism은 quartz crystal microbalance (QCM), UV-Vis absorption, 과 photon correlation spectroscopy (PCS)를 이용하여 특성을 분석하였으며, 이러한 연구 결과로부터 박막의 growth mechanism은 homogeneous 반응으로 결정 입자가 형성되어 박막으로 형성하고 있으며, 수용액의 혼합 조건에 따라 민감하게 변화함을 관찰하였다. 화학적 용액 성장법에 의해 형성된 박막의 band gap 은 3.5 eV 이며, SEM에 의해 나타내어지는 박막 표면은 스펀지와 유사한 구조를 가지고 있다. α-Ni(OH)2 을 포함하는 박막은 열처리에 의해 NiO 로 변환됨을 TGA, XRD, 그리고 XPS 와 같은 분석기기를 이용하여 특성을 분석하였다. |
