| 초록 |
무정형 고분자의 경우 박막의 두께가 변화하면 분자의 운동성과 밀접한 관련이 있는 유리전이온도와 물리적 시효 거동이 변화하는 것으로 알려져 있으며, 이러한 변화는 고분자의 분자량, 박막의 상태(freestanding film과 supported film) 및 첨가되는 나노 입자의 종류에 의존한다. 본 연구에서는 polystyrene(PS)에 polyhedral oligomeric silsesquioxane(POSS)를 첨가하여 spin coating 공정을 통해 ~60 nm, ~200 nm 두께의 freestanding 박막을 제조하였고, 시차주사열량계(DSC)를 이용하여 유리전이온도와 등온 물리적 시효량을 측정하였다. 물리적 시효는 유리전이온도 이하의 등온에서 다양한 시효시간(ta)동안 가열하여 KWW(Kohlrausch-Williams-Watts) 식을 적용함으로서 분자 거동을 분석하였다. 또한 poly(methyl methacrylate)(PMMA)에 대하여 ~50 nm, ~80 nm, ~620 nm 두께의 박막을 제조하여 동일한 실험을 진행하였고 PS과 비교 분석하였다. |
