| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1997년 봄 (04/25 ~ 04/26, 동국대학교) |
| 권호 | 3권 1호, p.1561 |
| 발표분야 | 촉매/반응공학 |
| 제목 | 고주파와 고급산화법(UV+H2O2)에 의한 페놀의 산화 분해반응 |
| 초록 | 본 연구에서는 자외선과 고주파를 함께 사용하여 과산화수소의 산화력을 높일 수 있는 방법을 연구하고자 하였다. 고주파에 의해 극성분자는 빠른 회전과 진동, 충돌로 자외선에 의한 광분해 반응을 촉진시켜 유기물과 산화제간의 반응을 촉진할 수 있으리라 판단되며 새로운 AOP 기술개발에 기여할 수 있으리라 기대된다. 우선 과산화수소/자외선AOP공정에 고주파를 도입하여 페놀의 산화 분해반응을 관찰하였고 이러한 산화 분해반응에 의한 페놀의 제거율을 기존의 방법과 비교하였다. |
| 저자 | 전재성, 차상엽, 조무환, 한도흥 |
| 소속 | 영남대 |
| 키워드 | Phenol; Oxidation; Microwave; AOP |
| 원문파일 | 초록 보기 |
